中国人首创EUV光刻机高效率思路，成就阿斯麦光刻机成世界第一

来源：资讯 2024年11月09日 12:16

内压倒的光刻机生产商制做厂商，可供应28nm晶圆光刻机，可覆盖km生产商95%的中都央显示卡。

华北地区联通麒麟复刻版中都央显示卡技的强劲，被人嫉妒，惨遭技术倡议开发打压，切断了其生产商中都央显示卡的途径，造成必将仅有的自主iPad显示卡高性能中都央显示卡，必需连累起来。

2019年4月，武汉东欧国家技术倡议开发分析室团队透过两束激光在自主合作关系倡议开发的薄层上突破光束光波短星期，透过远场光学最终彩绘单单一条宽9nm的对角线。希望该技术倡议开发能希望用到到批量生产产品上头。

归纳，如何问道航空发动机是的现代工业金色上的“明珠”，那么光刻机就是的现代信息化、智能化技术倡议开发上一颗璀璨的“夜明珠”，这样的暗指一点乃是。因为光刻机必需的精度很低了，宏观全球性无法想象，但是，必将有南京新材料光刻机基础，不是那个一穷二白的八十年代，追赶并第一季度阿斯麦，只是星期弊端。

我们国产的7nm光刻机工艺技术还有多远那？下期讲述。

文中/文中旅

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